Alon Hoffman教授于1987年在以色列理工学院获得理学博士学位。随后在美国匹兹堡大学和澳大利亚皇家墨尔本理工大学从事三年博士后研究，并在澳大利亚核科技组织担任两年研究科学家，于1992年作为高级讲师加入以色列理工学院化学系。1997年晋升副教授，2007年成为正教授，期间曾在法国、意大利、中国和澳大利亚进行学术休假。

在从事教学工作的同时，Alon 教授几乎参与了以色列理工学院所有层级的管理工作，包括系主任、学院院长和副校长等职务。他在该校建立了表面科学与薄膜研究团队，其研究活动可分为两大方向：（一）由科学基金会支持的基础研究；（二）由工业界资助的应用研究。他已指导40余名硕士和博士研究生，这些学生目前在以色列及全球各地担任学术和工业界职位。

其实验室开展的基础研究涵盖以下领域：金刚石表面的化学与物理特性；分子、低能离子、电子、光子及等离子体与金刚石表面的相互作用；金刚石表面电子发射；金刚石薄膜成核与生长；纳米晶金刚石薄膜等。应用研究则涉及开发钢和WC-Co基板上的金刚石薄膜沉积工艺及其二次电子发射特性。他在权威期刊发表原创研究论文300余篇，参与撰写多部书籍章节和综述论文，总引用量超过9000次。历年参加国际会议时，他以展板报告、特邀报告及主旨演讲等形式展示研究成果。

在化学系，Alon 教授建立了多个特色实验室：采用化学气相沉积法的金刚石薄膜制备实验室；配备光学与扫描探针显微镜的显微分析实验室；以及拥有两套独特超高真空系统的表面科学实验室，这些系统配备最先进的表面分析技术，包括质谱分析和多种电子能谱方法。

此外，Alon 教授是四个成年子女（Adam, Ilana, Talia, Tamar）的父亲，五个孙辈（Michael, Zohar, Nur, Aurelia, Ory-On）的祖父。他热爱接触不同文化背景的人士，喜欢自然徒步、探索新景点和环球旅行。